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日照置业:国产7nm稳了!中芯国际明确表态:第四季度开始量产

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3月24日消息,近日中芯国际第一次对外公开了N+1和N+2代工艺的情况,CEO梁孟松表示N+1代工艺与14nm制程工艺相比在性能上提高了20%,功耗降低了57%,芯片面积减少了55%,而N+2代工艺在性能和成本上则更高。

据悉,中芯国际N+1代工艺和台积电第一代7nm工艺相近,N+2代工艺则与台积电的7nm+相近。中芯国际表示,N+1仅是公司内部的代号,和7nm工艺不能划上等号,在2019年第四季度就已经完成了流片,现在正在进行客户产品的验证阶段,将于今年第四季度正式开始量产。

据了解,中芯国际N+1代工艺在功耗、稳定性等方面与市场上成熟的7nm相当,但是在性能上还有较大的差距,其实更接近三星或台积电的10nm工艺,而N+2代工艺与7nm更接近,但是性能仍达不到7nm的要求。

梁孟松表示,目前中芯国际无需EUV光刻机也能实现7nm工艺的生产,台积电第一代7nm工艺也是没有使用EUV,但是之后的5nm、3nm则必须具备EUV。对于我国即将在今年第四季度迎来7nm量产你怎么看?欢迎留言评论。

本文编辑:NJNR205


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